半导体激光打标机的激光产生原理

如果大量原子处在高能级E2上，当有一个频率 =（E2-E1）/h的光子入射，从而激励E2上的原子产生受激辐射，得到两个特征完全相同的光子，这两个光子再激励E2能级上原子，又使其产生受激辐射，可得到四个特征相同的光子，这意味着原来的光信号被放大了。这种在受激辐射过程中产生并被放大的光就是激光！

    激光打标机上的模块所发出的是部分能量的光子，其原理就是里面的二极管阵列对激光棒进行泵浦，实现粒子反转（就像水泵抽水一样），当超过阈值时，高能级的粒子就会自动跃迁到低能级，发出光子（能量守恒）。

    全反镜、半反镜所形成的是一个谐振腔，光子在谐振腔里面无限受激放大形成高能量激光。由谐振腔、激光工作物质（激光泵）、泵浦源（二极管阵列）才真正组成一个激光发射装置（这里的激光工作物质、泵浦源都集成在模块里面）。

    当激光器发出2hλ时，经过半反镜后，发出了hλ，反射了hλ，反射经过激光器，激发出hλ后变成2hλ，2hλ再通过全反再次经过激光器（主要是激发激光棒里面的高能级光子）激发出2hλ，此次从激光器发出的是4hλ（用来激发的光子是不会消失）。就是这样一个过程让能量无限放大，就形成了高能量的激光！从理论上讲，这个光束的强度可以到无穷，但是实际不会，因为我们输入激光器的能量是一定的（也就是因为你提供家用的电只能让泵浦源产生一定能量，不能让更多的粒子实现粒子反转，通俗的讲就是你水泵的马力不够 ）。 

    前面用的是半反镜（就是反射一半的激光回去），激光就是由若干聚在一起、传播的方向都一致光子组成。微观的来看，就是半反镜反射一个光子回去，这个光子呢，经过激光器的时候，从激光器中撞一个光子出来（激发），那么激光器的另一头出来两个光子（用来撞击的光子不会停留在激光器里面，这个不能用物理中的力学来跟你解释）。两个光子再由后面的全反镜全部反射回去，再次经过激光器又可以撞出两个光子，变成了四个光子，就这样一个过程是不是就把激光的能量放大了四倍？前后两块镜片，就是起放大激光的作用，因为你所说的激光器所发出的激光能量还是很小的！ 

激光器的功率是固定的，选着全反半反只能适当的让同一电流下激光功率稍微变大一点，一般全反选择90%以上的（越高越好，好像没有100%的），半反好像是30%左右的吧。具体如何去判断它的反射率，得去找做镜片的人了，毕竟市场都是一分钱一分货嘛！

激光打标是用激光束在各种不同的物质表面打上永久的标记。打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物质，或者是通过光能导致表层物质的化学物理变化而"刻"出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质，显出所需刻蚀的图案、文字。

激光打标是利用高能量密度的激光对工件进行局部照射，使表层材料气化或发生颜色变化的物化反应，从而留下永久性标记的一种打标方法。其可以根据需求，打出各种不同文字，符号和图案等，字符大小可以从毫米到微米量级。并且由于标记过程为非接触性加工，不产生机械压机或机械应力，因此不会损坏工件物品。其热影响区域小，加工精细，加工速度快，成本低廉，自动化程度高等众多优势，更是汤常规方法无法实现的工艺轻松实现。

你说的那个激光器是用来泵浦的，用他来激励工作物质就是那个谐振腔里的晶体产生光子的，光子出来后在经过你说的那两个镜片来回的反射谐振放大然后输出激光。

因为两块反射镜片一个是X轴向的，一个是Y轴向的，负责激光束的移动，镜片在工作是是运动的

激光器，只是一个发光源，它发出的光不是很强，它要经过Q头调频，反复的放大，而两块反射镜片，就是让激光器发出的光反复的经过Q头调频然后放大，前面那块叫前反（半反），反射50%的光，后面那块叫后反（全反），反射100%的光，两块镜片，一个激光器，一个Q头，这四样才能组成一个激光发生器或叫谐振腔。

通俗易懂的说法就是：半导体激光器是产生激光的，两块反射镜片是用来蓄积能量的，新产生的激光在两块反射镜之间来回反射，然后能量蓄积到一定程度时，由Q驱控制释放出去。